HS1500G 气密腔超高温热台
HS1500G高温热台为显微镜/光谱仪上的超高温应用设计，可用于陶瓷、冶金、地质、高温材料等领域。可加装样品接电引线，可定制样品区。
此款冷热台可在 30℃ ~ 1500℃ 范围内控温，同时允许光学观察和样品气体环境控制。热台窗盖与台体构成一个气密腔，且样品区偏离视窗中心，这样即可以充入氮气等保护气体，来防止样品高温下反应，又可以通过旋转窗片来移开窗片上的挥发物。
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HS1200G 超高温气密热台
HS1200G高温热台为显微镜/光谱仪上的超高温应用设计，可用于陶瓷、冶金、地质、高温材料等领域。可加装样品接电引线，可定制样品区。 此款冷热台可在 30℃ ~ 1200℃ 范围内控温，同时允许光学观察和样品气体环境控制。热台窗盖与台体构成一个气密腔，且样品区偏离视窗center，这样即可以充入氮气等保护气体，来防止样品高温下反应，又可以通过旋转窗片来移开窗片上的挥发物。此外另有真空腔型号HS1200V提供。查看更多>> -
HS1400GXY 气密腔超高温热台
HS1400GXY专为显微镜/光谱仪的超高温应用设计。此款冷热台可在 30℃ ~ 1400℃ 范围内控温，并且可以通过XY移动尺控制样品移动，同时允许光学观察和样品气体环境控制。 HS1400GXY的上盖与台体构成一个气密腔，腔内可以充入保护气体，来防止样品在高温下氧化。查看更多>> -
HS1500 真空腔/气密腔
HS1500是温度可达1500℃的热台，适用于制陶、冶金、地质、高温材料等领域。冷热台内为气密腔，可升级至真空腔，气密腔可充入保护气体可使样品高温时发生氧化；真空腔内可抽真空，也可充入保护气体，并支持抽真空后通入气氛这样的复杂操作。查看更多>>
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