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>室温 ~ 1500℃
HS1500G 气密腔超高温热台
HS1500G高温热台为显微镜/光谱仪上的超高温应用设计,可用于陶瓷、冶金、地质、高温材料等领域。可加装样品接电引线,可定制样品区。 此款冷热台可在 30℃ ~ 1500℃ 范围内控温,同时允许光学观察和样品气体环境控制。热台窗盖与台体构成一个气密腔,且样品区偏离视窗中心,这样即可以充入氮气等保护气体,来防止样品高温下反应,又可以通过旋转窗片来移开窗片上的挥发物。
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HS1200G 超高温气密热台
HS1200G高温热台为显微镜/光谱仪上的超高温应用设计,可用于陶瓷、冶金、地质、高温材料等领域。可加装样品接电引线,可定制样品区。 此款冷热台可在 30℃ ~ 1200℃ 范围内控温,同时允许光学观察和样品气体环境控制。热台窗盖与台体构成一个气密腔,且样品区偏离视窗center,这样即可以充入氮气等保护气体,来防止样品高温下反应,又可以通过旋转窗片来移开窗片上的挥发物。此外另有真空腔型号HS1200V提供。
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HS1400GXY 气密腔超高温热台
HS1400GXY专为显微镜/光谱仪的超高温应用设计。此款冷热台可在 30℃ ~ 1400℃ 范围内控温,并且可以通过XY移动尺控制样品移动,同时允许光学观察和样品气体环境控制。 HS1400GXY的上盖与台体构成一个气密腔,腔内可以充入保护气体,来防止样品在高温下氧化。
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HS1500 真空腔/气密腔
HS1500是温度可达1500℃的热台,适用于制陶、冶金、地质、高温材料等领域。冷热台内为气密腔,可升级至真空腔,气密腔可充入保护气体可使样品高温时发生氧化;真空腔内可抽真空,也可充入保护气体,并支持抽真空后通入气氛这样的复杂操作。
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