HCP421V-ELP
HCP421V-ELP为椭圆偏振仪设计。其上盖支持70°的出入射角度，台体温度范围 -190℃ ~ 400℃，同时允许光学观察和样品气体环境控制。上盖与底壳构成一个真空腔，也可往内充入氮气等保护气体，来防止样品在负温下结霜，或高温下氧化。
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半导体制冷 冷热平板
通用实验温控台， TEC半导体温控片，降温时无需液氮制冷耗材，适合长时间实验 -30℃~120℃ 可编程控温（无需制冷耗材） 方形台面，40mm~300mm尺寸型号皆有 开放式温控平台，适合搭配不同设备查看更多>> -
HCP621G-CUV1 比色皿专用冷热平板
HCP621G-CUV1为显微镜/光谱仪设计。适配12.5 mm x 3.5 mm比色皿，此款冷热台可在 -190℃ ~ 600℃ 范围内控温，同时允许光学观察和样品气体环境控制。热台上盖与底壳构成一个气密腔，可往内充入氮气等保护气体，来防止样品在负温下结霜，或高温下氧化。查看更多>> -
HCP421V 气密冷热平板
HCP421V是应用广泛的冷热平板，适用反射光光路观察。冷热平板能同时进行温度控制、气氛控制、样品电测试和光学观察。 HCP421V是真空腔型号，温度可达400℃，腔内既能抽真空也能充入保护气体，样品区大小28x30mm。也可升级为35x35mm样品区的型号。查看更多>> -
HCP621G 气密冷热平板
HCP621G专为显微镜/光谱仪设计。此款冷热台可在 -190℃ ~ 600℃ 范围内控温，同时允许光学观察和样品气体环境控制。热台上盖与底壳构成一个气密腔，可往内充入氮气等保护气体，来防止样品在负温下结霜，或高温下氧化。此外另有真空腔型号HCP421V提供。查看更多>> -
HP1500G高温气密热台
HP1500G高温热台专为显微镜/光谱仪上的超高温应用设计，可用于陶瓷、冶金、地质、高温材料等领域。可加装样品接电引线，可定制样品区。 此款冷热台可在 30℃ ~ 1500℃ 范围内控温，同时允许光学观察和样品气体环境控制。热台窗盖与台体构成一个气密腔，且样品区偏离视窗中心，这样即可以充入氮气等保护气体，来防止样品高温下反应，又可以通过旋转窗片来移开窗片上的挥发物。查看更多>> -
TP102LC1/TP102LC4 液晶盒测试用冷热平板
TP102LC1/TP102LC4是为液晶盒测试专门设计的冷热平板(温控治具)。设备基于半导体温控（帕尔贴）原理，可搭配Instec的ALCT系列液晶参数测试仪使用，实现温度依赖的样品参数测定 相比传统的电热丝加热方式，帕尔贴冷热台温控更加精准，使用更加方便，并且在样品区不大时成本减少。 TP102LC1/TP102LC4支持Instec的S型、SG型、IPS型液晶测试盒，并对SG型的保护电机做了接引。查看更多>> -
TP102SG/SV 冷热平板
TP102SG专为显微镜/光谱仪设计。冷热台的温控基于帕尔贴半导体温控片（TEC），无需液氮制冷耗材即可达到 -40℃。同时允许光学观察和样品气体环境控制。热台上盖与底壳构成一个气密腔，可往内充入氮气等保护气体，来防止样品在负温下结霜。此外另有真空腔型号TP102SV提供。查看更多>> -
液氮制冷 冷热平板
通用实验温控台，可编程控温，涵盖 -190℃~600℃（具体由型号而定）方形台面，50mm~300mm尺寸型号皆有，无边框设计，可安装于狭小空间，也带观察窗密封盖，内部可填充气体，可选真空型密封窗盖，内部可抽真空，可选外部握把，可选样品接电引线，可从温控器或电脑软件控制，可提供软件SDK。查看更多>>
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