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>冷热平板
HCP421V-ELP
HCP421V-ELP为椭圆偏振仪设计。其上盖支持70°的出入射角度,台体温度范围 -190℃ ~ 400℃,同时允许光学观察和样品气体环境控制。上盖与底壳构成一个真空腔,也可往内充入氮气等保护气体,来防止样品在负温下结霜,或高温下氧化。
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半导体制冷 冷热平板
通用实验温控台, TEC半导体温控片,降温时无需液氮制冷耗材,适合长时间实验 -30℃~120℃ 可编程控温(无需制冷耗材) 方形台面,40mm~300mm尺寸型号皆有 开放式温控平台,适合搭配不同设备
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HCP621G-CUV1 比色皿专用冷热平板
HCP621G-CUV1为显微镜/光谱仪设计。适配12.5 mm x 3.5 mm比色皿,此款冷热台可在 -190℃ ~ 600℃ 范围内控温,同时允许光学观察和样品气体环境控制。热台上盖与底壳构成一个气密腔,可往内充入氮气等保护气体,来防止样品在负温下结霜,或高温下氧化。
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HCP421V 气密冷热平板
HCP421V是应用广泛的冷热平板,适用反射光光路观察。冷热平板能同时进行温度控制、气氛控制、样品电测试和光学观察。 HCP421V是真空腔型号,温度可达400℃,腔内既能抽真空也能充入保护气体,样品区大小28x30mm。也可升级为35x35mm样品区的型号。
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HCP621G 气密冷热平板
HCP621G专为显微镜/光谱仪设计。此款冷热台可在 -190℃ ~ 600℃ 范围内控温,同时允许光学观察和样品气体环境控制。热台上盖与底壳构成一个气密腔,可往内充入氮气等保护气体,来防止样品在负温下结霜,或高温下氧化。此外另有真空腔型号HCP421V提供。
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HP1500G高温气密热台
HP1500G高温热台专为显微镜/光谱仪上的超高温应用设计,可用于陶瓷、冶金、地质、高温材料等领域。可加装样品接电引线,可定制样品区。 此款冷热台可在 30℃ ~ 1500℃ 范围内控温,同时允许光学观察和样品气体环境控制。热台窗盖与台体构成一个气密腔,且样品区偏离视窗中心,这样即可以充入氮气等保护气体,来防止样品高温下反应,又可以通过旋转窗片来移开窗片上的挥发物。
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TP102LC1/TP102LC4 液晶盒测试用冷热平板
TP102LC1/TP102LC4是为液晶盒测试专门设计的冷热平板(温控治具)。设备基于半导体温控(帕尔贴)原理,可搭配Instec的ALCT系列液晶参数测试仪使用,实现温度依赖的样品参数测定 相比传统的电热丝加热方式,帕尔贴冷热台温控更加精准,使用更加方便,并且在样品区不大时成本减少。 TP102LC1/TP102LC4支持Instec的S型、SG型、IPS型液晶测试盒,并对SG型的保护电机做了接引。
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TP102SG/SV 冷热平板
TP102SG专为显微镜/光谱仪设计。冷热台的温控基于帕尔贴半导体温控片(TEC),无需液氮制冷耗材即可达到 -40℃。同时允许光学观察和样品气体环境控制。热台上盖与底壳构成一个气密腔,可往内充入氮气等保护气体,来防止样品在负温下结霜。此外另有真空腔型号TP102SV提供。
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液氮制冷 冷热平板
通用实验温控台,可编程控温,涵盖 -190℃~600℃(具体由型号而定)方形台面,50mm~300mm尺寸型号皆有,无边框设计,可安装于狭小空间,也带观察窗密封盖,内部可填充气体,可选真空型密封窗盖,内部可抽真空,可选外部握把,可选样品接电引线,可从温控器或电脑软件控制,可提供软件SDK。
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